瑞典 SiTek 高线性二维位置敏感探测器（PSD）。2L10_SU7 基于横向光电二极管效应实现光斑二维坐标检测，属于纯模拟输出器件，无像素分割、无检测死区，可输出连续位置信号，位置分辨率仅由系统信噪比决定，极限分辨率可达百万分之一级别。
器件采用反向偏置模式稳定工作，入射光斑照射光敏面后，四路引脚输出对应 X、Y 轴坐标电流信号，可直接解算光斑重心二维位置，不受光斑大小、形态干扰。

产品介绍
瑞典 SiTek 高线性二维位置敏感探测器（PSD）

瑞典 SiTek 高线性二维位置敏感探测器（PSD）

一、产品基础信息

产品型号：2L10_SU7（物料编码：S2-0003）

品牌厂商：瑞典 SiTek Electro Optics AB（专业 PSD 光电传感器原厂）

产品定位：高线性度二维模拟型光电位置探测器，精密光学定位核心传感芯片

2L10_SU7尺寸封装图纸

二、核心工作原理

2L10_SU7 基于横向光电二极管效应实现光斑二维坐标检测，属于纯模拟输出器件，无像素分割、无检测死区，可输出连续位置信号，位置分辨率仅由系统信噪比决定，极限分辨率可达百万分之一级别。

器件采用反向偏置模式稳定工作，入射光斑照射光敏面后，四路引脚输出对应 X、Y 轴坐标电流信号，可直接解算光斑重心二维位置，不受光斑大小、形态干扰。

三、核心产品优势（推广重点）

超高线性检测精度

有效光敏区 80% 量程内，位置非线性误差仅 ±0.3%~±0.8%，线性表现行业，大幅降低校准难度，长期测量一致性稳定。

位置分辨率

器件固有分辨率优于 1/1,000,000，搭配配套信号处理电路可实现亚微米级定位，适配各类超高精度测量场景。

低噪声、低暗电流设计

暗电流最大 500nA，噪声电流低至 1.3~2.5 pA/√Hz，弱光环境下基线平稳，微弱光斑也可稳定识别。

高速响应，适配动态检测

上升时间仅 400~800ns，可捕捉高速振动、快速位移、动态光束偏移，满足实时闭环控制需求。

宽光谱、多版本可选

标准款适配 940nm 红外光源；可定制紫外增强型、YAG 激光专用款、核辐射探测专用版本，覆盖多波段检测需求。

封装稳定，适配工业 / 科研长期使用

陶瓷基板密封封装，带光学保护窗口、可焊引脚；工作温度最高 70℃，存储耐温达 100℃，温漂可控（40~200ppm/℃）。

配套成熟，快速落地项目

原厂提供 PM-kit 专用信号处理电路板，开箱即可搭建完整测量系统，无需复杂电路开发。

四、关键电气性能参数（标准测试条件：23℃、反向偏压 15V、光源 940nm）

表格

参数名称符号最小值典型值最大值单位

有效感光面积--10×10-mm²

位置非线性误差-±0.3-±0.8%

探测器内阻Rdet71016kΩ

暗电流Id-100500nA

噪声电流密度Inoise-1.32.5pA/√Hz

光电响应度r-0.63-A/W

结电容Cj90-110pF

上升时间 (10%-90%)tr400-800ns

推荐反向偏置电压Vr51520V

温度漂移-40-200ppm/℃

极限额定参数

最大反向耐压：30V

工作温度：≤70℃

存储温度：≤100℃

五、机械封装规格

基板材质：陶瓷基板

整体外形尺寸：25.0±0.1 mm × 21.0±0.1 mm；总长度 25.4mm

引脚布局：四路输出引脚 X1、X2、Y1、Y2，引脚间距、高度见配套工程图纸

引脚特性：X 轴为阴极，Y 轴为阳极；Y1/Y2 电位需低于 X1/X2，X、Y 同组引脚可互换使用

六、主流应用场景（宣传适用行业）

工业精密检测

激光测距、高度非接触测量；

光路自动校准、光束对准系统；

工件位移、运动轨迹实时监测；

设备微小振动、形变分析。

科研光学设备

光谱仪器、光学平台、精密干涉仪、实验室光束稳定系统。

特种定制场景

紫外检测、YAG 激光加工定位、核辐射光斑位置探测。

七、高精度系统搭建优化方案（客户选型指导）

想要充分发挥 2L10_SU7 的极限测量性能，系统设计建议遵循以下要点：

采用调制光源：规避环境杂散光干扰，提升信噪比；

恒温平台安装：减小温度漂移带来的测量误差；

高刚性机械工装：杜绝设备振动造成定位偏移；

高光学分辨率光路：搭配聚焦透镜缩小光斑，提升定位精度；

高精度差分信号采集电路：精准解析和 / 差信号，充分释放器件百万级分辨率。

八、原厂配套解决方案

SiTek 原厂推出PM-kit 通用 PSD 信号处理板卡，为 2L10_SU7 量身打造：

低噪声电路设计，高性能、通用性强；

无需自主设计模拟放大电路，快速搭建完整二维定位测量系统；

可通过代理商或原厂获取电路原理图、全套技术支持资料。

SiTek Electro Optics 品牌完整介绍

一、品牌起源：依托前沿光电理论诞生

上世纪 60 年代，J.T Wallmark 教授成功发现横向光电效应，基于该原理研发出位置传感探测器（PSD）技术，为高精度光电定位领域奠定核心理论基础。

为推动该项前沿技术实现商业化落地，SiTek 实验室于 1976 年在瑞典哥德堡查尔姆斯理工大学正式成立。品牌初期依托校内基金会开展技术研发，产品生产工作由创始团队在大学固态电子研究所兼职推进，是深耕 PSD 光电传感技术的专业研发机构之一。

二、品牌发展历程：跨越半个世纪的技术沉淀

1. 1984 年：规模化发展起点

公司完成股权变更，被专业投资集团收购，整体搬迁至哥德堡郊区帕提尔的标准化现代化厂区。厂区配套全新无尘生产车间，配齐 PSD 研发、制造全流程专业设备，告别实验室小规模试制模式，具备标准化量产能力。

2. 80 年代后半期：行业探索阵痛期

彼时全球市场尚未普及 PSD 应用，下游客户对该新型传感技术认知不足。品牌意识到 PSD 商业化除产品制造外，还需要大量市场推广、客户技术培训、全周期技术支持与深度项目协同。期间企业历经两次股权更迭，但研发团队始终坚持技术迭代，持续与核心客户保持深度技术合作，夯实产品技术壁垒。

3. 90 年代：品牌高速成长

90 年代初期，逐步认知 PSD 高精度定位优势，市场需求逐步稳定；

1993 年，品牌完成全新品牌形象升级，正式定名SiTek Electro Optics；

1995–1996 年企业规模、营收实现 30% 高速增长；同期重磅推出多款全新一代 PSD 传感器，在线性度、响应速度、分辨率、稳定性等核心指标实大幅升级，产品竞争力大幅提升。

4. 新世纪：斩获行业认可

进入 21 世纪，高精度光电测量组件市场需求持续爆发，SiTek PSD 凭借高性价比、稳定性能成为全球光电设备厂商优选传感方案。

1998 年企业产量、利润再度同比增长 30%；1999 年，SiTek 凭借技术与优质产品，荣获瑞典光电协会年度最佳光电企业大奖，行业地位获得认证。

时至今日，历经数十年深耕，瑞典 SiTek 已成长为的PSD 专业制造商，产品远销全球，收获全球顶尖光电企业一致认可。

三、品牌核心核心优势

顶尖产品性能

全系 PSD 传感器具备超高线性度、微米级高分辨率、高速响应、长期稳定可靠四大核心特性，适配各类高精度、动态测量场景，是光电设备厂商的核心选型标准。

深厚自研定制能力

品牌长期坚持自主深度研发，可根据客户设备场景提供定制化 PSD 专属设计方案，帮助下游厂商在激烈的市场竞争中建立差异化技术优势。

全场景配套服务

覆盖从元器件选型、光路方案指导、技术培训到长期售后支持的全流程服务，为客户解决 PSD 落地应用全链条难题。

四、核心应用领域

通用系统方向

非接触式激光三角测距系统

光路校准、平面水平度检测设备

位移、运动轨迹实时监测系统

光谱分析仪器

3D 机器视觉轮廓测绘设备

精密角度测量系统

细分落地场景

工业制造：生产高度 / 厚度在线质控、薄板焊接机器人引导、车身 / 发动机零部件质检、机床工件定心定位、机床导轨直线度 / 平面度检测、传动轴 / 轴承轴颈校准、滚轮平行度调试、机架校正、各类加工设备标定；

基建工程：路面路况快速检测、地面 / 混凝土基础平整度测量；

汽车测试：整车碰撞冲击力学分析、汽车零部件精密检测；

机器人行业：工业机器人动态性能检测、自动化视觉定位；

科研医疗：人体步态分析、人体工程学、运动医学、生物解剖光学研究；

光学检测：光谱分析、色彩检测、三维轮廓视觉扫描等。

五、主营产品体系

品牌核心主营位置传感探测器（PSD），分为一维 PSD、二维 PSD 两大品类，同时配套专用 PSD 安装支架、信号处理配套组件，可满足标准化采购与定制开发双重需求。

主流代表型号

一维 PSD：S1-0090 1L5NT_CP1、S1-0073 1L10UV_CP2、SA-0039 1LA16-2,5_SU89、1L2.5 SU74 SPC01、1L25 SU74 SPC02、1L5 SU74 SPC01、1L10 SU74 SPC01 等；

二维标准 PSD：S2-0184 2L4_SU71、S2-0003 2L10_SU7、S2-0030 2L2UV_MP1、S2-0016 2L10UV_SU7、S2-0196 2L45_SU24、2L20 SU9、2L10 CP6、2L4 CP5 等；

特种增强款：紫外增强型 2L2UV MP1、2L4UV MP1、2L10UV SU7、2L20UV SU9；

配套组件：SE-0018 SEEPOS 信号处理套件、MH01 PSD 专用安装支架、SE-0012/SE-0013 配套外设。